การผสานรวมที่ขับเคลื่อนด้วย AI มอบข้อมูลที่เป็นหนึ่งเดียวและเชื่อถือได้ เพื่อรองรับการวิเคราะห์และการตัดสินใจภายในแพลตฟอร์ม Microsoft Fabric อย่างราบรื่น ลอนดอน, Nov. 20, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Quantexa ผู้นำระดับโลกด้าน Decision Intelligence (DI) ประกาศความพร้อมให้บริการทั่วไปของ Quantexa Unify สำหรับ Microsoft Fabric นับเป็นก้าวสำคัญในการช่วยให้องค์กรต่าง ๆ สร้างระบบข้อมูลที่เชื่อมต่อกันอย่างมีคุณภาพสูง เพื่อปลดล็อกศักยภาพสูงสุดของการวิเคราะห์ข้อมูลและ AI Quantexa Unify สำหรับ Microsoft Fabric พร้อมให้บริการแล้ววันนี้บน Microsoft Marketplace ตลอดหลายทศวรรษที่ผ่านมา องค์กรต่าง ๆ มุ่งแสวงหาวิธีสร้างมุมมองแบบ Enterprise 360 ที่สมบูรณ์ กล่าวคือ ความเข้าใจแบบบูรณาการและมีบริบทของข้อมูลจากทุกฝ่าย ทุกแผนก ทุกระบบ และจากแหล่งข้อมูลภายนอก

ผู้บุกเบิกด้าน Decision Intelligence ได้รับการยอมรับในความเป็นผู้นำด้าน AI ที่อธิบายได้ การเฝ้าติดตามพฤติกรรมแบบเรียลไทม์ และการวิเคราะห์ความเสี่ยงเชิงบริบท ลอนดอน, Nov. 20, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Quantexa ผู้นำระดับโลกด้าน Decision Intelligence ได้รับการยกย่องให้เป็นผู้นำหมวดหมู่ใน Quadrant ของ Chartis RiskTech สำหรับโซลูชันตรวจจับการฟอกเงิน (AML) แบบตรวจสอบธุรกรรม และใน RiskTech Quadrant สำหรับโซลูชัน KYC ปี 2025 Chartis Research เป็นผู้ให้บริการวิเคราะห์อิสระชั้นนำด้านเทคโนโลยีความเสี่ยงและการปฏิบัติตามกฎระเบียบ รายงานของ Chartis ถือเป็นมาตรฐานอ้างอิงที่ได้รับความไว้วางใจจากสถาบันการเงินในการประเมินโซลูชันและผู้นำตลาด การได้รับการยอมรับทั้งสองด้านจาก Chartis เน้นย้ำถึงอิทธิพลที่เพิ่มขึ้นของ Quantexa ในการช่วยให้สถาบันการเงินที่ใหญ่ที่สุดในโลกลดความเสี่ยง ต่อสู้กับอาชญากรรมทางการเงิน ปรับเปลี่ยนระบบการปฏิบัติตามกฎระเบียบ และขยายการใช้งาน AI อย่างรับผิดชอบ

รอตเทอร์ดัม เนเธอร์แลนด์, Nov. 19, 2025 (GLOBE NEWSWIRE) — Nearfield Instruments ผู้นำด้านโซลูชันการควบคุมกระบวนการแบบ 3 มิติ ไม่ทำลายชิ้นงาน และตรวจวัดได้แบบอินไลน์ โดยอาศัยเทคโนโลยีสแกนนิงโพรบ ประกาศเปิดตัวโครงการพัฒนากลยุทธ์ร่วมกันเพื่อเร่งสร้างนวัตกรรมในงานเมโทรโลยีสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ในฐานะส่วนหนึ่งของความร่วมมือหลายปีนี้ Nearfield Instruments จะนำระบบเรือธงของบริษัท QUADRA ไปติดตั้ง ณ ศูนย์วิจัยและพัฒนาขั้นสูงของ Imec ในเมืองลูเวน ทั้งสององค์กรจะร่วมกันพัฒนาโซลูชันเมโทรโลยีรุ่นใหม่เพื่อตอบโจทย์ความท้าทายสำคัญต่าง ๆ ในห่วงโซ่การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ รวมถึง: เมโทรโลยีสำหรับ High-NA EUV Lithography การพัฒนาและการวิเคราะห์เมโทรโลยีแบบ 3 มิติของวัสดุเรซิสต์สำหรับ High-NA EUV โดยใช้โหมดการถ่ายภาพสัดส่วนสูง (High-Aspect-Ratio: HAR) ที่เป็นเอกสิทธิ์ของ Nearfield (FFTP) เพื่อช่วยเพิ่มประสิทธิภาพของเครื่องสแกนเนอร์ การวัดลักษณะเฉพาะแบบ 3 มิติของอุปกรณ์ลอจิกขั้นสูง